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ATS斩获 2026 高端研磨抛光材料大会「优秀设备奖」
2026-04-29

在刚刚落幕的2026 高端研磨抛光材料大会(GPM-3)上,安拓思纳米技术(苏州)有限公司凭借AH系列高压均质机,荣获大会组委会、中国粉体网联合颁发的「优秀设备奖」。这份来自行业权威的认可,是市场对ATS在研磨抛光材料制备领域技术实力的直接印证。


行业升级需求下,高压均质机如何突破传统局限?


随着半导体、精密制造等领域对高端研磨抛光材料的粒径均一性、批次稳定性、生产效率要求持续升级,传统制备设备的短板逐渐显现:
  • 粒径控制精度不足,易出现团聚、分布宽,难以满足先进制程抛光液的低缺陷要求;
  • 工艺兼容性有限,对高固含量、高粘度浆料适配性差,前处理流程复杂;
  • 长期运维成本高,核心部件磨损快,影响生产连续性。

而本次获奖的ATS高压均质机,正是针对这些行业痛点,完成了技术与性能的双重突破。


ATS高压均质机的核心优势


作为本次大会获评「优秀设备奖」的核心产品,ATS高压均质机凭借多项关键技术优化,重新定义了研磨抛光材料制备的效率与标准:
  1. 超精细粒径控制,实现窄分布纳米级制备
    通过优化均质腔结构与压力控制系统,可稳定实现颗粒细化至 100nm 以下,粒径分布跨度(Span)<0.5,有效避免物料团聚,保障抛光材料的均一性,完美适配先进制程对低缺陷抛光液的严苛要求。
  2. 高适配性工艺设计,简化前处理流程
    升级后的进料系统与均质阀组,可直接处理高固含量、高粘度浆料,无需复杂的预分散、过滤工序,大幅缩短生产周期,减少物料损耗与人工成本,适配抛光液、纳米混悬剂等多种配方体系。
  3. 高耐磨核心部件,降低长期运维成本
    关键接触部件采用特种耐磨材质,配合智能压力监控系统,大幅延长设备使用寿命,减少备件更换频率,有效降低全生命周期的运维成本,保障工业量产的连续性。
  4. 温和均质工艺,兼顾热敏性材料需求
    优化的流体剪切路径,可精准控制过程温升,避免热敏性材料因高温失效;同时支持从实验室小试到工业量产的线性放大,解决了传统设备 “小试与量产工艺脱节” 的行业难题。


荣誉加冕,是认可更是新起点


本次「优秀设备奖」的获得,不仅是行业对ATS高压均质机性能与技术创新的认可,更是市场对高压均质技术在高端研磨抛光材料制备领域应用价值的肯定。


从实验室研发到工业量产,从工艺优化到成本控制,安拓思始终聚焦行业痛点,以技术创新为客户提供更具竞争力的制备方案。未来,我们也将继续深耕研磨抛光材料领域,以更稳定、高效的设备,助力高端材料国产化进程,为行业发展注入新动能。


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